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Eksma 格蘭泰勒偏振棱鏡

簡(jiǎn)要描述:Eksma 格蘭泰勒偏振棱鏡
天然方解石格蘭-泰勒偏振棱鏡透射線偏振的非常規(guī)光束并將普通光束偏轉(zhuǎn)到外殼上。 格蘭泰勒棱鏡設(shè)計(jì)用于在220 nm至2300 nm的透射范圍內(nèi)工作。

  • 產(chǎn)品品牌:Eksma
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時(shí)間:2021-03-24
  • 訪  問(wèn)  量:1020

詳細(xì)介紹

品牌Eksma價(jià)格區(qū)間面議
組件類別光學(xué)元件應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma 格蘭泰勒偏振棱鏡


Eksma 格蘭泰勒偏振棱鏡

產(chǎn)品介紹

Ø由天然方解石制成

Ø空氣間隔

Ø消光比-1:10-5

天然方解石格蘭-泰勒偏振棱鏡透射線偏振的非常規(guī)光束并將普通光束偏轉(zhuǎn)到外殼上。 格蘭泰勒棱鏡設(shè)計(jì)用于在220 nm至2300 nm的透射范圍內(nèi)工作。

已安裝的棱鏡以ø25 mm黑色陽(yáng)極氧化鋁外殼提供,沒(méi)有逸出端口。

產(chǎn)品型號(hào)

型號(hào)

描述

POL0001308

Unmounted

POL0001309

Mounted

 

Material

Natural calcite

Surface quality (input/exit faces)

60-40
scratch & dig (MIL-PRF-13830B)

Wavefront distortion

λ/4 at 633 nm

Beam deviation

<10 arcmin

Wavelength

220-2300 nm

Extinction ratio

1:10-5

Laser Damage Threshold

0.5 J/cm2
10 ns pulses at 1064 nm

 

材料

天然方解石

表面質(zhì)量(輸入/出口面)

60-40表面光潔度 (MIL-PRF-13830B)

波前畸變

λ/4 at 633 nm

光束偏差

<10 arcmin

波長(zhǎng)

220-2300 nm

消光比

1:10-5

激光損傷閾值

0.5 J/cm2
10 ns pulses at 1064 nm

 EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外(193 nm)到可見(jiàn)光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí)。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。 通過(guò)嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評(píng)估以及對(duì)新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗(yàn)集團(tuán)(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

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